ASML و TSMC ماسک های بزرگتری برای تراشه های کوچکتر می خواهند
هدف صنعت حذف محدودیت های دوخت و سیستم های آماده EUV با NA بالا برای تولید تا سال 2033 است.
خواندن متن کامل در دِ رجیستربه زبان اصلی، در سایت ناشر باز میشود
متن اصلی (انگلیسی)
ASML and TSMC want bigger masks for smaller chips
Industry push aims to eliminate stitching constraints and ready high-NA EUV systems for production by 2033